照射器　UEEX801

照射器　UEEX204

コンベアシステム　USEX501

■高周波（RF）放電の特長

バリア放電式に比べて、
1. 紫外線出力が大きい
2. 超高電圧によるイオン衝撃が石英ガラス管壁に対して小さく長寿命
3. 超高電圧を使用しないので安全性が高い
4. 紫外線出力の調光が可能


■エキシマ紫外線照射装置の特長

1. 短波長UV光

キセノンエキシマランプは、従来の低圧水銀ランプでは発生させることができなかった非常にエネルギーが高い短波長UV光（172nm）を発光可能

従来の低圧水銀ランプでは不可能だった反応を行なったり、飛躍的に反応時間を短縮することが可能

2. 瞬時点灯

従来の低圧水銀ランプの様に点灯時に安定するまでの時間がかかるようなことがなく、瞬時に必要なエネルギーを取り出すことができる

点滅点灯も可能なためシャッターの必要性がなく、構造がシンプル

3. 低温処理が可能

赤外線等の発生がなく、ワークにダメージを与えない

4. 多様な照射条件設定

照射室に各種反応性ガスの導入や、温調ステージによる加熱処理の併用が可能

・半導体分野でのウエハー、ガラス基板のドライ洗浄
・液晶、PDP、EL等での製造工程でのドライ洗浄